本實用新型涉及一種晶圓加工設備,包括晶圓載具,氣源提供裝置,及導向托盤.晶圓載具設有吹氣通道.吹氣通道的出氣口形成于晶圓載具的承載面.氣源提供裝置與吹氣通道的進氣口相連通.導向托盤設置于承載面的上方,導向托盤的底面與出氣口相對設置,與承載面之間形成有氣流間隙.氣源提供裝置將氣體通過吹氣通道送入,經吹氣通道的出氣口外排,出氣口排出的氣體在導向托盤的導向作用下,經氣流間隙朝向承載面的邊緣方向吹掃,從而能將承載面上及晶圓載具的邊緣上的顆粒物吹掃清潔干凈.此外,在對晶圓載具清潔過程中,導向托盤能承受腔室中掉落的顆粒物,避免顆粒物掉落到承載面上.