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GaN快充市場賽道提速,SRII交付半導體晶圓設備助力中國產能擴充

來源: 中電網
2021-11-02
類別:業界動態
eye 7
文章創建人 拍明

原標題:GaN快充市場賽道提速,SRII交付半導體晶圓設備助力中國產能擴充

GaN(氮化鎵)快充市場近年來確實在加速發展,其背后的驅動力主要來自于消費電子市場,尤其是智能手機、筆記本電腦等設備的快充需求不斷增長。SRII(此處可能指的是某家公司或品牌,但具體名稱可能因不同語境而有所變化,考慮到信息的準確性和通用性,我將直接討論相關技術和設備如何助力中國產能擴充)通過交付半導體晶圓設備,在這一領域發揮了重要作用。

一、GaN快充市場的發展現狀

  1. 市場增長:隨著蘋果公司等科技巨頭推出高功率GaN快充產品,如140W氮化鎵快充,以智能手機、筆記本電腦為代表的消費電子快充市場迎來了重要拐點。近兩年來,全球GaN充電器的出貨量已經突破了數千萬只,顯示出強勁的市場需求。

  2. 市場規模預測:根據Yole Développement等權威機構的預測,到2026年,全球GaN功率器件的市場規模有望達到11億美元,年復合增長率將達到70%,其中消費類市場是主要驅動力。這表明GaN快充市場在未來幾年內將繼續保持高速增長。

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二、SRII(或相關公司)的貢獻

  1. 技術設備支持:為了應對GaN功率器件的大規模量產需求,除了襯底外延等相關制造設備外,針對功率器件關鍵工序的沉積鍍膜設備也迎來了更龐大的市場需求。SRII(或類似公司,如文中提到的思銳智能)通過推出業界領先的量產型ALD沉積設備,如Beneq Transform系列,助力中國市場的第三代半導體龍頭客戶加速其GaN產線的擴充。

  2. 技術創新:這些設備憑借成熟、穩定的多片沉積工藝,提供了卓越的沉積鍍膜生產效率、鍍膜均勻性以及納米級膜厚精準控制等優勢。特別是通過加入預加熱模塊等技術創新,顯著縮短了設備的常規升溫時間,提高了產能,打破了業界對于ALD沉積速率偏慢的刻板印象。

  3. 客戶認可與合作:SRII(或思銳智能)憑借其技術先進性和量產化優勢,迅速獲得了客戶的認可。例如,成功交付的Beneq Transform Lite設備幫助中國市場的第三代半導體龍頭客戶完成了從中試到相當規模量產的過渡,并計劃進一步幫助客戶完成沉積工藝延伸產線的搭建及相關的量產調試。

三、中國GaN快充市場的未來展望

  1. 市場規模擴大:隨著國產供應鏈的成熟和替代力度的加大,中國GaN快充市場規模將持續擴大。預計到2026年,中國氮化鎵充電器市場規模將上升到50億元,顯示出巨大的市場潛力。

  2. 技術創新與應用拓展:在快充技術的推動下,GaN材料不僅在消費電子領域得到廣泛應用,還將在光電子、激光器、高溫大功率器件和高頻微波器件等領域展現出廣闊的應用前景。隨著技術的不斷創新和應用領域的拓展,GaN快充市場將迎來更加廣闊的發展空間。

綜上所述,GaN快充市場賽道正在加速發展,SRII(或類似公司)通過交付半導體晶圓設備和技術創新,為中國產能擴充提供了有力支持。未來,隨著市場規模的擴大和技術的不斷創新,GaN快充市場將迎來更加繁榮的發展局面。


責任編輯:David

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