計算光刻技術
計算光刻技術
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近年來,空間光調制器(SLM)無掩模光刻技術受到微電子及相關領域的廣泛關注.SLM作為無掩模光學光刻系統的圖形發生器,可便捷,靈活,并行,低成本和高速地產生曝光圖形,在小批量高精度掩模制作和微光學器件生產中發揮了重要作用,在高分辨集成電路制作上也表現出極其誘人的應用前景

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