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光刻機
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光刻機和刻蝕機哪個更重要
光刻機和刻蝕機哪個更重要
光刻機和刻蝕機在芯片制造過程中都扮演著非常重要的角色，它們各自承擔著不同的任務，且互為補充。光刻機主要用于將掩膜板上的圖案轉移到硅片上，通過優化光刻機的光學系統和控制算法，可以實現更高的分辨率和更精準的圖案轉移。光刻機的作用是將設計好的芯片圖案投射到光敏感的化學物質上，形成所需的圖案結構，從而制作出芯片中的電路。而刻蝕機則主要用于去除芯片......
光刻機
2024-05-14
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中國14納米芯片光刻機
中國14納米芯片光刻機
中國在14納米芯片光刻機領域已經取得了一定的進展。據報道，哈工大實驗團隊在國產DUV光刻機的研發領域取得了重大突破，成功完成了核心部件的自行建造，使得14納米的光刻機有望在近期內進行量產。這一成果體現了中國在芯片制造技術研發方面的實力和潛力。光刻機是芯片制造過程中的關鍵設備之一，其精度直接影響到芯片制造的工藝水平和芯片性能。因此，擁有自主......
14納米...
2024-02-23
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上海微電子28nm光刻機
上海微電子28nm光刻機
上海微電子已成功研制出28nm光刻機，這是國內唯一一家掌握光刻機技術的企業所取得的重大突破。光刻機是制造芯片的核心設備之一，其精度和穩定性對于芯片制造的質量和效率具有決定性的影響。28nm光刻機的研制成功，意味著中國芯片制造行業在核心技術方面取得了重要進展，也為中國芯片產業的自主發展提供了有力支撐。光刻機是一種利用光學原理進行高精度微納加......
上海微電... 28nm...
2024-02-23
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ASML下一代高精準度EUV光刻機售價將高達3億美元
ASML下一代高精準度EUV光刻機售價將高達3億美元
ASML（阿斯麥）下一代高精準度EUV（極紫外）光刻機的售價確實預計將達到一個相當高的水平，但具體售價可能會受到多種因素的影響，包括生產成本、市場需求、技術先進性以及市場競爭態勢等。根據公開發布的信息，ASML的下一代高精準度EUV光刻機，如EXE: 5000型號，其數值孔徑為0.55，可用于2nm節點以下芯片制造，如1.4nm、1nm等......
EUV光... 臺積電 制程節點
2021-12-24
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ASML下一代EUV光刻機將提前量產：售價3億美元，Intel首發采用
ASML下一代EUV光刻機將提前量產：售價3億美元，Intel首發采用
關于ASML下一代EUV光刻機將提前量產，售價為3億美元，并由Intel首發采用的信息，可以歸納如下：一、ASML下一代EUV光刻機概述ASML（阿斯麥）作為全球光刻機技術的領軍企業，其下一代EUV（極紫外）光刻機備受業界關注。這款光刻機采用了高數值孔徑（High NA）技術，能夠實現更高的光刻分辨率，進而推動芯片制造工藝的進一步升級。二......
EUV光... ASML 2D材料
2021-12-15
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英諾賽科成功導入ASML光刻機，進一步提升產能和產線良率
英諾賽科成功導入ASML光刻機，進一步提升產能和產線良率
英諾賽科（珠海）科技有限公司成功導入ASML光刻機，這一舉措對其進一步提升產能和產線良率產生了顯著影響。以下是關于此事件的詳細分析：一、事件背景時間：2021年12月8日，英諾賽科為ASML光刻機成功導入8英寸硅基氮化鎵量產線舉辦了慶典。合作方：英諾賽科與全球芯片制造設備領導廠商ASML達成合作，引入了其先進的光刻機設備。二、ASML光刻......
硅基氮化... ASML... 碳化硅(...
2021-12-10
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國產“28nm光刻機”又跳票？到底卡在了哪里？
國產“28nm光刻機”又跳票？到底卡在了哪里？
關于國產“28nm光刻機”是否又跳票以及具體卡在了哪里的問題，可以從以下幾個方面進行分析：一、國產28nm光刻機的進展與挑戰1. 進展概述國產光刻機技術一直在不斷發展和進步。近年來，國內企業如上海微電子等在光刻機領域取得了顯著成就，已經能夠量產90nm分辨率的ArF光刻機，并有望在28nm分辨率的光刻機上取得突破。然而，關于國產“28nm......
28nm... 上海微電...
2021-12-07
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國內光刻機設備現狀
國內光刻機設備現狀
國內光刻機設備現狀可以從技術水平、市場份額、企業競爭力以及面臨的挑戰等方面來進行分析。一、技術水平國內光刻機技術在近年來取得了顯著進步，但與國際領先水平相比仍存在一定差距。目前，國內光刻機的技術水平主要集中在90nm至180nm的精度范圍內，而世界領先水平已經達到了5nm甚至3nm。不過，值得注意的是，國內企業在后道光刻機領域已經取得了重......
國內光刻... 光刻機設...
2021-12-07
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國產光刻機背后的希望
國產光刻機背后的希望
國產光刻機背后的希望主要體現在以下幾個方面：一、政策支持與資金投入政策支持：中國政府高度重視半導體產業的發展，包括光刻機在內的關鍵設備研發得到了國家政策的大力支持。政府通過制定一系列政策措施，如稅收優惠、資金支持、人才引進等，為國產光刻機的研發提供了有力保障。資金投入：隨著國家對半導體產業的投入不斷增加，國產光刻機的研發資金也得到了顯著提......
國產光刻... EUV光...
2021-12-07
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“02專項“為何非要選擇28納米光刻機這么一個數字？
“02專項“為何非要選擇28納米光刻機這么一個數字？
“02專項”選擇28納米光刻機作為目標，并非隨意之舉，而是基于多方面的考量和技術限制。以下是對此選擇的詳細分析：一、技術可行性最佳分辨率：28納米是193nm ArF激光干法光刻結合double patterning技術所能達到的最佳分辨率。這種技術組合在現有條件下具有相對較高的可行性。單次光刻的分辨率受限于光源波長、透鏡組數值孔徑以及曝......
28nm... 28納米...
2021-12-07
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28nm光刻機卡住“02專項”——對于督工部分觀點的批判（睡前消息353期）
28nm光刻機卡住“02專項”——對于督工部分觀點的批判（睡前消息353期）
關于“28nm光刻機卡住‘02專項’——對于督工部分觀點的批判（睡前消息353期）”這一話題，首先需要明確的是，督工（即馬督工）的觀點可能基于其個人理解和對當前技術、市場及政策環境的分析，但并不一定完全準確或全面。以下是對督工部分觀點可能存在的批判性思考：一、對技術難度的理解督工觀點： 可能認為28nm光刻機的研發難度過大，導致無法按期通......
28nm...
2021-12-07
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不用EUV光刻機也能造5nm芯片？鎧俠攜手NDP與佳能力推NIL技術
不用EUV光刻機也能造5nm芯片？鎧俠攜手NDP與佳能力推NIL技術
是的，不用EUV光刻機也能造5nm芯片，這得益于鎧俠攜手NDP（大日本印刷株式會社）與佳能共同力推的NIL（納米壓印微影）技術。技術背景與優勢EUV光刻機問題：在半導體制程技術進入5nm節點后，EUV光刻機成為了不可或缺的關鍵設備。然而，EUV光刻機造價高昂（每臺價格超過1億美元），且僅荷蘭ASML一家能夠生產供應，產能有限，導致芯片生產......
EUV光... 納米壓印... 手機應用...
2021-10-26
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光刻機龍頭 ASML 第三季度業績激增近 70%，EUV 光刻業務出貨量刷新紀錄
光刻機龍頭 ASML 第三季度業績激增近 70%，EUV 光刻業務出貨量刷新紀錄...
光刻機龍頭ASML（阿斯麥）在第三季度的業績確實實現了顯著增長，并且EUV（極紫外光）光刻業務的出貨量也刷新了紀錄。以下是對該情況的詳細分析：一、第三季度業績激增近70%凈利潤增長：ASML公布的2021年第三季度業績顯示，其凈利潤達到了17億歐元，與上一季度相比增長了67.6%，這是一個非常顯著的增幅。凈銷售額增長：同時，該季度的凈銷售......
光刻機 邏輯節點 光刻系統
2021-10-22
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報告：半導體設備國產化正加速，今年預計將建成 8 座高產能晶圓廠
報告：半導體設備國產化正加速，今年預計將建成 8 座高產能晶圓廠
關于“半導體設備國產化正加速，今年預計將建成8座高產能晶圓廠”的報告，我們可以從以下幾個方面進行詳細分析：一、半導體設備國產化加速的背景全球趨勢：近年來，全球半導體產業持續向中國大陸轉移，這為中國半導體設備國產化提供了良好的外部環境。隨著技術的不斷進步和市場的不斷擴大，國內半導體設備廠商在各自優勢環節逐漸取得突破。政策支持：中國政府高度重......
熱處理設... 光刻機 清洗設備
2021-09-26
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半導體分析機構：阿斯麥 ASML 是英特爾追上臺積電的“救世主”
半導體分析機構：阿斯麥 ASML 是英特爾追上臺積電的“救世主”
半導體分析機構認為阿斯麥（ASML）對于英特爾追上臺積電具有關鍵作用，這一觀點主要基于以下幾個方面：一、技術領先性的重要性1. EUV技術的領先優勢：臺積電在EUV（極紫外光刻）工具數量和經驗方面遙遙領先于英特爾。EUV技術是先進技術節點的關鍵，對于提升芯片制造精度和性能至關重要。當年ASML在EUV技術拓展上遇到困難時，蘋果通過向臺積電......
光刻機 三星 晶體管
2021-09-14
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阿斯麥新一代 EUV 光刻機開始制造：造價 1.5 億美元，公共汽車大小
阿斯麥新一代 EUV 光刻機開始制造：造價 1.5 億美元，公共汽車大小
　　阿斯麥（ASML）是全球領先的半導體設備制造商，其EUV（極紫外光）光刻機在芯片制造中扮演著至關重要的角色。近日，阿斯麥宣布已經開始制造新一代的EUV光刻機，這款機器的造價高達1.5億美元，體積相當于一輛公共汽車。　　這款新一代的EUV光刻機預計將大幅提升芯片制造的精度和效率，為未來的半導體技術發展提供強大的支持。盡管造價高昂，但對于......
新型晶體... 人工智能 云計算機...
2021-09-03
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中芯國際回應是否有自己的光刻機：從外部采購而來
中芯國際回應是否有自己的光刻機：從外部采購而來
中芯國際在回應是否有自己的光刻機時明確表示，其光刻機是從外部采購而來的。以下是對此問題的詳細解析：一、中芯國際的光刻機采購情況采購來源：中芯國際的光刻機主要來自全球領先的光刻機制造商，如荷蘭的ASML（阿斯麥）公司。ASML是全球光刻機技術最先進的廠商，其生產的EUV光刻機是目前唯一能夠用于生產制造7nm以下芯片的設備。然而，由于技術限制......
光刻機 中芯國際 集成電路...
2021-08-16
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美光科技將引入極紫外光刻機，2024 年部署到部分工藝節點
美光科技將引入極紫外光刻機，2024 年部署到部分工藝節點
美光科技將引入極紫外光刻機，并計劃在2024年部署到部分工藝節點的消息，是基于其長期技術發展規劃和市場需求做出的重要決策。以下是對此消息的詳細解讀：一、背景與計劃技術背景：極紫外光刻機（EUV光刻機）是半導體制造領域的一項先進技術，它以波長為10~14納米的極紫外光作為光源，可用于制造14納米及以下的先進制程芯片。這項技術對于提高芯片的性......
外光刻機 DRAM 存儲芯片
2021-07-05
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ASML攜手東京電子研發下一代EUV光刻機，預計2023年投入運行
ASML攜手東京電子研發下一代EUV光刻機，預計2023年投入運行
英飛凌科技股份公司（Infineon）推出的EiceDRIVER X3 Enhanced和X3 Compact柵極驅動器系列增強型隔離產品，為工業應用提供了更高水平的安全性和可靠性。以下是對這兩個系列增強型隔離產品的詳細介紹：一、產品概述EiceDRIVER X3 Enhanced系列該系列包括模擬（1ED34xx）和數字（1ED38xx......
EUV光... 工藝模塊 高蝕刻電...
2021-06-15
87
上海微電子年底前將推出28nm光刻機？
上海微電子年底前將推出28nm光刻機？
關于上海微電子年底前是否將推出28nm光刻機的問題，雖然目前沒有直接的信息表明該設備確切的推出時間，但可以從相關報道和公開信息中做一些合理的推斷。首先，上海微電子裝備公司（SMEE）在光刻機研發方面有著一定的實力和積累。有報道指出，上海微電子正在全力以赴開發國產28納米光刻機，并計劃在未來實現量產。這表明上海微電子在28nm光刻機領域有明......
5G設備... 激光系統 DUV光...
2021-06-11
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