Cymer公司是世界領先的準分子激光源提供商，發明了如今半導體制造中最關鍵的光蝕刻微影技術所需的深紫外光源。產品主要特性是：帶寬窄，運行速度高，可靠性強。Cymer光源在批量生產符合特定規格的的世上最先進的半導體芯片時起著決定性的作用。 　　在1960年代，芯片制造商使用可見光做為照射光源。到了1990年代，芯片制造商則開始使用熱汞氣(hot mercury gas)所產生較短波長的不可見紫外線做為照射光源，這種光源波長可使芯片的電路線寬縮小到0.35微米。接著芯片制造商還希望能由紫外線再改進至具有更短波長的X射線(X-ray)，但X-ray的成本仍然太高，而且很難被使用在芯片制造上。另一種可能做為芯片攝影平板技術(photolithography)的新光源是只有0.25微米波長的excimer雷射光。1997年，這項新雷射光源模塊（laser module）被一家叫Cymer Inc.的新廠商正式開發出來，并被運用在芯片制程的成影設備Stepper上 。