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光刻機和刻蝕機哪個更重要
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光刻機和刻蝕機在芯片制造過程中都扮演著非常重要的角色，它們各自承擔著不同的任務，且互為補充。
光刻機主要用于將掩膜板上的圖案轉移到硅片上，通過優化光刻機的光學系統和控制算法，可以實現更高的分辨率和更精準的圖案轉移。光刻機的作用是將設計好的芯片圖案投射到光敏感的化學物質上，形成所需的圖案結構，從而制作出芯片中的電路。
而刻蝕機則主要用于去除芯片表面的多余物質，例如氧化層、金屬等。在光刻機將電路結構復制到硅片上之后，刻蝕機需要對硅片上的電路結構進行微雕，這需要極大的精準度，才能讓線路可以安置進雕刻出的溝槽與接觸點之中。隨著制程的縮小，刻蝕步驟的數量也在不斷增加，例如14nm制程需要64次刻蝕步驟，而7nm制程則直接飆升至140余次。
因此，光刻機和刻蝕機在芯片制造過程中都是不可或缺的，它們各自具有重要的作用。無法簡單地說哪一個更重要，因為它們都是制造高性能芯片所必需的設備。
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