原標題：南大光電毛智彪博士談 ArF 光刻膠國產化的機遇和挑戰

南大光電毛智彪博士關于ArF光刻膠國產化的機遇和挑戰的論述，主要集中在以下幾個方面：

機遇

1. 市場需求增長：

• 隨著汽車電子、5G等新應用的持續擴大，國內對IC光刻膠的市場需求進一步增長。這種需求增長為國產光刻膠提供了廣闊的市場空間。

• 同時，國外光刻膠供應的不穩定，特別是美國對中國的貿易限制和日本光刻膠企業產能短缺，使得國內集成電路制造企業亟需穩定的光刻膠供應，這極大地帶動了光刻膠國產替代的需求。

2. 政策支持：

• 國家對集成電路產業和軟件產業的高質量發展給予了政策上的支持，包括稅收減免等優惠措施，這有利于國內光刻膠產業的發展。

3. 技術突破：

• 南大光電在ArF光刻膠領域取得了關鍵性的突破，成功開發出國內第一支通過產品驗證的國產ArF光刻膠，為國產光刻膠的產業化奠定了基礎。

挑戰

1. 本土人才缺乏：

• 國產光刻膠產業需要引進和自主培養大量專業人才，以支撐產業的發展。然而，目前本土人才相對缺乏，是產業發展面臨的一大挑戰。

2. 檢測驗證成本高昂：

• 光刻膠產品的檢測驗證成本非常高昂，國內目前還缺少必要的檢測驗證能力，這增加了國產光刻膠的研發和產業化難度。

3. 客制化特性：

• 國產光刻膠的國產替代現實決定了其現階段的客制化特性，即需要根據不同客戶的需求進行定制化生產，這增加了生產難度和成本。

4. 產業鏈不完善：

• 國內缺少光刻膠材料產業鏈，特別是對光刻膠原材料的研發和生產能力不足。光刻膠的原材料如溶劑、成膜樹脂、光致酸劑、抑制劑等，特別是成膜樹脂的研發和生產難度極大，需要建立起完整的產業鏈以支撐國產光刻膠的長久健康發展。

5. 技術挑戰：

• ArF光刻膠的復雜性和高精度要求使得其在穩定量產階段仍然存在工藝上的諸多風險。在應用工藝的改進、完善等方面的表現，都會決定ArF光刻膠的量產規模和經濟效益。

綜上所述，南大光電毛智彪博士認為，ArF光刻膠國產化既面臨著市場需求增長、政策支持和技術突破等機遇，也面臨著本土人才缺乏、檢測驗證成本高昂、客制化特性、產業鏈不完善和技術挑戰等挑戰。為了推動國產光刻膠產業的發展，需要加大人才引進和培養力度、提升檢測驗證能力、完善產業鏈布局、加強技術研發和創新等方面的工作。