ASML、尼康和東京電子不會向中國公司提供高端光刻設備。

　　作為美國政府、荷蘭和日本之間協議的一部分，ASML、尼康和東京電子將不會向中國公司提供高端光刻設備。

　　根據 華爾街日報，“荷蘭將禁止荷蘭光刻機制造商ASML Holding NV從 銷往中國 至少一些浸入式光刻機，這是公司深紫外光刻生產線中最先進的一種設備。

　　ASML制造世界上所有的極紫外光刻機，這對于生產尖端半導體至關重要。

　　中國可以很容易地繞過先進半導體的出口禁令，就像它多年來所做的那樣。獲得巨大的光刻機要困難得多，從頭開始制造它們幾乎是不可能的。此外，每年只有幾百臺這樣的機器被銷售，這使得控制它們的目的地變得更加容易。

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　　資料來源：ASML媒體庫，?ASML目前尚不清楚這些關鍵設備中有多少已經出售給中國，以及中國公司已經擁有生產最先進半導體的能力。

　　雖然中國不太可能擁有生產10納米以下芯片的技術，但它已經在投資新的晶圓廠。目前，只有臺灣的臺積電可以生產5nm技術。為此，它需要ASML擁有的先進光刻機。

　　美國的平版印刷

　　光刻系統是一種投影系統。光線通過要打印的圖案藍圖(稱為“遮罩”或“標線”)投射。這個過程將重復100次或更多次，在圖案上鋪設圖案以制作完整的微芯片。

　　這項關鍵技術 1957年被發現 作者：Jay Lathrop 和 James Nall，來自馬里蘭州美國陸軍鉆石軍械引信實驗室。他們 專利 用于沉積約200微米寬的薄膜金屬條以在陶瓷基板上連接分立晶體管的光刻技術。

　　1959年，拉斯羅普加入了德州儀器，納爾去了仙童半導體。1958年，仙童的工程師制造了首批“步進重復”相機之一，使用光刻技術在單個晶圓上輕松復制和乘法晶體管。

　　在1980年代初期，GCA公司被認為是光刻技術的全球領導者，并被譽為“最熱門的高科技公司”之一。他們發明了晶圓步進器(步進和重復相機)，一種類似于幻燈機或攝影放大機的設備，可以進一步減小芯片尺寸。這是第一個超過1微米限制的技術。

　　當時，日本競爭對手尼康和佳能正在迅速追趕，并進行大膽的技術投資。雖然美國的光刻公司在與半導體制造商達成協議之前一直保留資本支出，但日本人與他們攜手合作，制定路線圖并協調新設備的交付。

　　“沒有光刻工具就不可能制造半導體，但唯一剩下的美國生產商正在為生存而掙扎，”克里斯米勒寫道。 芯片大戰：爭奪世界上最關鍵的技術.

　　1993年，在從政府支持的Sematech財團獲得至少6000萬美元的資金后， 漢華關閉工廠 在馬薩諸塞州，因為它無法與ASML，尼康和佳能競爭。

　　ASML無法滿足需求

　　雖然其他光刻制造商可以打印10nm圖案，但ASML的 EUV(極紫外線)技術 允許將最小要素的比例降低到該限制以下。這就是為什么他們擁有最先進的光刻機100%的市場。

　　最近 ASML報告 2022財年收入為230億美元，凈收入為60.5億美元。這家荷蘭公司向其客戶出售了 317 套新光刻系統和 28 套二手光刻系統。他們預計 2023 財年的凈銷售額將增長 25%。

　　“對于2023年，ASML預計與2022年相比，凈銷售額將增長25%以上，毛利率略有改善。我們預計第一季度凈銷售額在61億歐元至65億歐元之間，毛利率在49%至50%之間，“ASML總裁兼首席執行官Peter Wennink表示。

　　向中國出口設備的新限制不會損害公司的底線，因為臺灣、歐洲和美國的需求將繼續增長。

　　中國可能會進行報復

　　芯片制造設備對于中國引領人工智能和量子計算技術的雄心至關重要。

　　雖然中國大公司有可能在國外采購最先進的芯片并建立新系統，但無法在中國大陸設計和制造先進半導體是他們雄心壯志的倒退。

　　中國政府尚未就新的限制發表任何評論，但它可能會做出反應。一種可能性是 貿易限制 關于西方企業。

　　本文最初發表于 每股收益新聞.

　　巴勃羅·瓦萊里奧已經在IT行業工作了25 +年。雖然主要在巴塞羅那工作，但他也曾在美國、意大利、德國、荷蘭和丹麥工作。在過去的 10 年里，他一直是電子、通信、移動和智能城市領域多篇出版物的定期撰稿人。他的作品出現在EE Times，IoT Times，InformationWeek，EBN，LightReading，Network Computing和IEEE Spectrum等。Pablo 擁有俄亥俄州立大學電氣工程碩士學位。