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三星沖刺3nm GAA制程,代工相關的流程設計工具已推出

來源: 中電網
2021-09-13
類別:業界動態
eye 10
文章創建人 拍明

原標題:三星沖刺3nm GAA制程,代工相關的流程設計工具已推出

三星在沖刺3nm GAA(環繞閘極)制程方面取得了顯著進展,并且已經推出了與代工相關的流程設計工具。以下是對此的詳細分析:

一、三星3nm GAA制程的進展

  1. 量產情況

    • 三星在2022年6月底就已經宣布其3nm GAA制程實現了量產,標志著該公司在先進制程技術上的重要突破。

    • 然而,盡管實現了量產,但其良率的提升過程相對緩慢,這導致僅有少數芯片設計廠商采用了三星的3nm GAA工藝來代工一些相對簡單的芯片,如礦機芯片。

  2. 技術特點

    • 三星3nm GAA制程采用了全新的環繞閘極技術,與臺積電采用的鰭式場效電晶體(FinFET)架構的3nm制程技術不同。這種新技術在性能、功耗和面積(PPA)等方面具有顯著優勢。

二、代工相關的流程設計工具推出

  1. 與新思科技的合作

    • 三星與新思科技(Synopsys)緊密合作,采用了新思科技的Fusion Design Platform,該平臺的物理設計套件(PDK)已在2019年5月發布,并在后續通過了流程認證。

    • 三星還采用了新思科技的Synopsys DSO.ai EDA套件,成功完成了基于其3nm GAA晶體管的“高性能移動SoC”生產流片。這一合作加速了三星在3nm GAA制程技術上的設計和實施過程。

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  1. 與Cadence的合作

    • 三星旗下晶圓代工事業部門與全球電子設計自動化(EDA)巨頭Cadence合作,推出了3nm制程相關開發工具,這些工具能減少IC設計客戶設計的時間,加速產品設計定案,為后續的光罩制作和投片生產提供了有力支持。

    • Cadence在2021年向三星提供了針對3nm GAA技術的流程設計工具(PDK),這些工具在半導體設計、實施和物理驗證方面提供了比現有程序更快的解決方案。

三、三星在3nm GAA制程中的優勢與挑戰

  1. 優勢

    • 采用全新的GAA技術,具有顯著的性能和功耗優勢。

    • 與全球領先的EDA廠商合作,擁有先進的流程設計工具。

    • 在數據中心、網絡系統、5G等關鍵領域加快技術合作,有助于推動其技術的廣泛應用。

  2. 挑戰

    • 良率提升緩慢,影響了部分客戶的采用意愿。

    • 臺積電在3nm制程領域也具有強大的競爭力,且客戶群遠多于三星。

    • GAA技術的普及和接受度尚需時間,市場反饋具有不確定性。

綜上所述,三星在沖刺3nm GAA制程方面取得了重要進展,但仍需面對良率提升、市場競爭等挑戰。隨著技術的不斷成熟和市場的逐步接受,三星有望在先進制程領域占據更重要的地位。



責任編輯:David

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