原標題：LEMO推出帶定位銷的標準自鎖多芯連接器

Atonarp宣布推出創新計量平臺Aston，這一舉措旨在顯著提升半導體制造工藝的產量、吞吐量和效率。以下是關于Aston平臺的詳細解析：

一、Aston平臺簡介

• 背景：Atonarp，作為半導體、保健和制藥行業分子傳感及診斷產品的領先制造商，于2021年7月16日正式宣布推出Aston平臺。該平臺是一個創新型原位半導體計量平臺，帶有集成等離子體電離源，標志著半導體生產計量領域的一次重大演變。

• 特點：Aston專為半導體生產而設計，能夠實現原位分子過程控制，使現有工廠運行更高效，推動產出提升。它具備高靈敏度和高精確度，能夠準確提供實時工藝化學數據，其分子濃度測量靈敏度可達十億分之一。

二、Aston平臺的主要優勢

1. 提升產量和吞吐量：

• Aston在某些應用中的單位工藝吞吐量可以提升40%以上，這對于晶圓廠來說是一個顯著的改進。對于一家典型的晶圓廠，即使整體產能提高1%，每年的產量也能增加價值數千萬美元。

• 通過快速、可操作的端點檢測（EPD），Aston能夠準確檢測一個過程何時結束，從而優化生產流程。例如，在腔室清潔方面，Aston可將所需的清潔時間減少80%。

1. 適應惡劣環境：

• Aston對腐蝕性氣體和氣態污染物冷凝物具有抵抗力，能夠在半導體生產中出現的惡劣條件下可靠運行。這得益于其獨立的雙電離源設計（包括一個經典的電子沖擊電離源和一個無燈絲等離子體電離器），使得Aston能夠在傳統電子電離器會迅速腐蝕和失效的環境中使用。

2. 延長服務間隔：

• 與傳統質量分析儀相比，Aston的服務間隔時間延長了100倍。它擁有自清潔能力，可以清除某些過程中產生的冷凝物沉積，減少了維護成本和時間。

3. 實時數據統計分析：

• Aston能夠提供量化、可操作的實時數據，提高過程一致性。同時，它還能通過人工智能推進高性能機器學習，滿足最苛刻的過程應用需求。

三、Aston平臺的應用范圍

Aston平臺主要針對化學氣相沉積（CVD）和蝕刻應用，這兩種應用的年增長率均超過13%。它既可以在新腔室組裝時安裝在其中，也能夠加裝在已經運行的現有腔室中。此外，Aston還可與韓國ATI公司開發的智能壓力控制器Psi組合使用，提供綜合解決方案。

四、市場反響與未來發展

• Atonarp已向韓國和美國的領先半導體FAB和設備制造商交付了Aston平臺，并收到積極反饋。隨著半導體行業的不斷發展，Aston平臺有望在未來發揮更加重要的作用，推動半導體制造工藝的進一步升級和優化。

綜上所述，Atonarp推出的創新計量平臺Aston憑借其顯著的優勢和廣泛的應用范圍，正在逐步改變半導體制造工藝的面貌，為行業帶來更高的產量、吞吐量和效率。