原標題：ASML：摩爾定律沒有減速或失效，還將持續10年或更久

ASML（Advanced Semiconductor Materials Lithography）對于摩爾定律的看法是積極的，其認為摩爾定律沒有減速或失效，并且還將持續10年或更久。以下是對ASML這一觀點的詳細解釋：

一、摩爾定律的定義與重要性

摩爾定律是英特爾創始人戈登·摩爾提出的經驗法則，它指出集成電路上可以容納的晶體管數目在大約每經過18個月到24個月便會增加一倍，揭示了信息技術進步的速度。這一定律在過去的幾十年中得到了廣泛的驗證，并推動了整個半導體行業的快速發展。

二、ASML對摩爾定律的看法

ASML作為光刻機領域的領軍企業，一直密切關注著半導體行業的發展趨勢。其認為，盡管隨著芯片工藝的不斷進步，越來越接近物理極限，但摩爾定律并沒有失效或減速。相反，通過不斷的技術創新和優化，半導體行業仍然能夠保持快速的發展勢頭。

三、ASML的技術創新與摩爾定律的延續

ASML在光刻機技術方面取得了顯著的進展，這些進展為摩爾定律的延續提供了有力的支持。例如：

1. 極紫外光刻機（EUV）：ASML獨家生產的極紫外光刻機是半導體制造中的關鍵設備，它能夠幫助臺積電、三星、英特爾等芯片制造商實現更先進的制程發展。

2. 前瞻性技術：ASML正在積極研發多種前瞻性技術，如gate-all-around FETs（環繞柵極晶體管）、nanosheet FETs、forksheet FETs以及complementary FETs等。這些技術有望將芯片的制程推進到1納米甚至更小的節點，從而進一步延續摩爾定律。

四、ASML對芯片未來發展趨勢的預測

ASML對芯片未來的發展趨勢持樂觀態度。其認為，隨著技術的不斷進步和創新，芯片工藝將繼續不斷前進。預計到2039年，芯片工藝將達到sub-A2級別（即小于0.2納米）。這一預測展示了ASML對摩爾定律持續有效的堅定信念。

綜上所述，ASML認為摩爾定律沒有減速或失效，并且還將持續10年或更久。這一觀點得到了其技術創新和芯片未來發展趨勢預測的支持。然而，半導體行業的發展仍然面臨著諸多挑戰和不確定性因素，因此ASML的這一預測也需要根據實際情況進行不斷的調整和完善。