原標題：芯和半導體片上無源電磁場仿真套件成功通過三星8LPP工藝認證

芯和半導體片上無源電磁場仿真套件成功通過三星8LPP工藝認證，這一事件標志著芯和半導體在EDA（電子設計自動化）領域取得了重要進展，以下是對此事件的詳細解讀：

一、認證背景與意義

1. 認證背景：

• 芯和半導體科技（上海）有限公司（簡稱“芯和半導體”）作為國內EDA行業的領導者，一直致力于為芯片設計公司提供先進的仿真解決方案。

• 三星晶圓廠的8納米低功耗（8LPP）工藝是在其上一代FinFET先進節點的基礎上，對功率、性能和面積作了進一步優化，被認為是眾多高性能應用中最具吸引力的工藝節點之一。

2. 認證意義：

• 此次認證表明芯和半導體的片上無源電磁場（EM）仿真套件已經滿足了三星8LPP工藝的高標準要求，能夠顯著提升IC設計公司在該工藝上的設計交付速度。

• 這對于國產EDA工具來說是一次重要的突破，意味著國內芯片公司在使用先進工藝進行后仿真時，可以更多地依賴國產工具，降低了對國外軟件的依賴風險。

二、套件組成與技術特點

1. 套件組成：

• 芯和半導體的片上無源電磁場仿真套件包含了快速三維電磁場仿真器IRIS和快速自動PDK建模工具iModeler。

2. 技術特點：

• IRIS采用了為先進工藝節點量身定做的最先進的EM仿真技術，提供了從DC到THz的精確全波算法，并通過多核并行計算和分布式處理實現仿真效率的加速。

• IRIS還擁有多項匹配先進工藝節點的特定功能，如考慮線寬線距在加工時的偏差等，因此被多家設計公司廣泛采用。

• iModeler則能夠通過內置豐富的模板及快速的IRIS仿真引擎自動生成PDK，幫助PDK工程師和電路設計工程師快速生成參數化模型。

三、認證影響與未來展望

1. 認證影響：

• 此次認證將增強芯和半導體在EDA領域的市場地位，吸引更多IC設計公司選擇其解決方案。

• 同時，這也將為三星等晶圓廠提供更多的國產EDA工具選擇，有助于推動國產EDA工具在全球市場的普及和應用。

2. 未來展望：

• 芯和半導體將繼續與三星等晶圓廠進行深入合作，共同推動先進工藝技術的發展和應用。

• 隨著5G、智能手機、物聯網等領域的快速發展，對高頻/高速電子組件的需求將不斷增加，芯和半導體的EDA解決方案將迎來更廣闊的市場空間。

• 芯和半導體將不斷加大研發投入，提升產品性能和用戶體驗，為全球客戶提供更加優質的EDA解決方案和服務。

綜上所述，芯和半導體片上無源電磁場仿真套件成功通過三星8LPP工藝認證是其在EDA領域取得的一次重要里程碑。這一事件將推動國產EDA工具在全球市場的普及和應用，為芯片設計公司提供更加高效、可靠的仿真解決方案。